[ ベベルとエンボス ] のオプション、[ テクスチャ ] を使用すると、グレースケールの階調によって、効果の適用量が変えられるので、立体的な効果にデコボコを加えることができます。
【操作方法】
[ レイヤースタイル ] ダイアログで、[ スタイル ] メニューから、[ ベベルとエンボス ] の [ テクスチャ ] をクリックします。
[ クリックでパターンピッカーを開く ] をクリックして、パターンピッカーから [ 雲模様 ] を選択します。
[ 比率 ] に [ 1000 ] % を入力します。
[ 深さ ] に [ +50 ] % を入力します。
雲模様がない？
パターンピッカー内に [ 雲模様 ] がリストアップされなかったら、パターンピッカーメニューから [ パターン ] を選んでください。
バージョン 2020 以降では、[ パターン ] パネルメニューから、[ 従来のパターンとその他 ] を選択すると読み込まれるプリセットフォルダー [ 従来のパターン ] – [ パターン ] に含まれています。
[ ベベルとエンボス ] の効果は、水滴の表面に光沢をつけるものでした。しかし、対象としているオブジェクトは透明です。当然、中身が見えるワケですので、屈折した陰影を、内側につける設定を行いましょう。
【操作方法】
[ レイヤースタイル ] ダイアログで、[ スタイル ] メニューから、[ シャドウ (内側) ] をクリックします。
[ 構造 ] セクションの [ 描画モード ] にある、[ シャドウのカラーを設定 ] をクリックして、[ H : 28°/ S : 60 % / B : 60 % ] を設定します。
[ 不透明度 ] に [ 100 ] % を入力します。
[ 角度 ] にある、[ 包括光源を使用 ] を無効にします。
[ 角度 ] に [ 45 ]°を入力します。
[ 距離 ] に [ 13 ] px を入力します。
[ サイズ ] に [ 26 ] px を入力します。
[ 画質 ] セクションの [ 輪郭 ] にある、[ アンチエイリアス ] を有効にします。
包括光源を使用ってなに？
[ 包括光源を使用 ] は、レイヤースタイルに含まれる複数の光源の [ 角度 ] を共通に設定する項目です。初期設定では有効とされ、最後に設定した光源の [ 角度 ] が優先されます。
光源に別々の [ 角度 ] を設定したい場合は、まず、[ 包括光源を使用 ] を無効にしてから行いましょう。